加熱制冷控溫系統(tǒng) 反應釜動態(tài)溫度控制系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置 加熱冷卻循環(huán)器 加熱制冷循環(huán)器加熱制冷循環(huán)裝置 制冷加熱控溫系統(tǒng)介紹
更新時間:2023-12-20
廠商性質:生產廠家
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱循環(huán)裝置-40℃~200℃(拖二系統(tǒng))
更新時間:2023-12-20
廠商性質:生產廠家
SUNDI系列制冷加熱—適合高放熱量應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。
更新時間:2023-12-20
廠商性質:生產廠家
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環(huán)裝置體機-45℃ ~ 250℃
更新時間:2023-12-20
廠商性質:生產廠家
寬工作溫度范圍,同時具備加熱制冷功能,Z大溫度范圍:-50 ~250度。寬工作溫度范圍,同時具備加熱制冷功能,Z大溫度范圍:-50 ~250度。全封閉小型高低溫循環(huán)裝置
更新時間:2023-12-20
廠商性質:生產廠家