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高低溫循環(huán)裝置-70℃~250℃

簡要描述:應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環(huán)裝置-70℃~250℃

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-755
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-12-21
  • 訪  問  量:1068
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應用領域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,電子,制藥

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/



高低溫循環(huán)裝置-70℃~250℃

高低溫循環(huán)裝置-70℃~250℃


  TCU制冷加熱循環(huán)設備是各大制藥化工實驗室中進行制冷和加熱功能的控溫儀器設備,無錫冠亞這種設備常配套各種反應釜、反應器蒸餾,萃取等使用,那么,這類TCU制冷加熱循環(huán)設備是怎么進行控溫的呢?

  TCU制冷加熱循環(huán)設備采用全密閉循環(huán)管道循環(huán)制冷加熱中,通過導熱介質(zhì)或者制冷劑進行制冷加熱循環(huán)來實現(xiàn)到達的溫度目標變化,達到后的溫度效果。TCU制冷加熱循環(huán)設備是全密閉的循環(huán)管路控溫,在高溫或者低溫中不需要更換導熱介質(zhì),可直接200℃高溫降溫,達到需要的溫度。

  TCU制冷加熱循環(huán)設備可實時控制運行畫面,以曲線圖的方式顯示記錄下來,可以選擇對應的程序以。運行過程中,如果出現(xiàn)問題有對應的靠譜保護功能。比如:相序保護、漏電保護器保護、泵過載保護、壓縮機過載保護、高低液位保護、斷水保護保護、循環(huán)管路關死保護保護。

  TCU制冷加熱循環(huán)設備采用智能控制,穩(wěn)定好,結(jié)果重復性高,在使用操作TCU制冷加熱循環(huán)設備的時候比較簡單,設備型號大小不同,占地比較小。無錫冠亞制冷加熱循環(huán)設備可以配套一臺反應釜,也可以配套多臺反應釜進行制冷加熱控溫,全密閉循環(huán)管路減少導熱介質(zhì)的接觸面積,減少導熱油的損耗。

TCU制冷加熱循環(huán)設備可以滿足不同的溫度要求以及行業(yè)需求,應用也是逐漸廣泛從之前的加熱或者制冷要求到現(xiàn)在的逐漸不同程度的要求不同的控制方式,例如壓力可控、流量監(jiān)控、以及一些功能性的曲線記錄與顯示功能,設備更是逐漸的滿足客戶對苛刻溫度的需求。



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