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簡(jiǎn)要描述:制冷加熱循環(huán)一體機(jī),應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿(mǎn)足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。反應(yīng)釜加熱冷卻裝置主要用途
品牌 | LNEYA/無(wú)錫冠亞 | 價(jià)格區(qū)間 | 5萬(wàn)-10萬(wàn) |
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天 |
無(wú)錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于:
高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、
雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制;
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測(cè)試、
組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
反應(yīng)釜加熱冷卻裝置主要用途
反應(yīng)釜加熱冷卻裝置適合用于高純度金屬、稀有物質(zhì)提純、試驗(yàn)室環(huán)境模擬、磁控濺射、真空鍍膜等行業(yè),大型低溫泵機(jī)組可以為噸位級(jí)珍貴實(shí)驗(yàn)室儀器提供降溫環(huán)境。反應(yīng)釜加熱冷卻裝置是采取機(jī)械形式來(lái)制冷的低溫液體循環(huán)設(shè)備。具有提供低溫液體、低溫水浴的作用。
結(jié)合旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、真空冷凍干燥箱、循環(huán)水式多用真空泵、磁力攪拌器等儀器,進(jìn)行多功能低溫下的化學(xué)反應(yīng)作業(yè)及藥物儲(chǔ)存。反應(yīng)釜加熱冷卻裝置可與多種儀器配套使用,制冷量大,制冷速度快,能耗低,大大地提高了工作效率;反應(yīng)釜加熱冷卻裝置的流量可調(diào)亦可定制,根據(jù)用戶(hù)要求在低溫與制冷量,低溫與容器量之間合理搭配。可以滿(mǎn)足不同用戶(hù)的實(shí)際需要。
反應(yīng)釜加熱冷卻裝置主要用途:
1、能對(duì)雙層玻璃反應(yīng)釜、不銹鋼反應(yīng)釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀等儀器設(shè)備提供超低溫低溫恒溫循環(huán)液。
2、對(duì)玻璃容器和玻璃反應(yīng)裝置提供恒溫實(shí)驗(yàn)場(chǎng)所。
3、石油化工、生物制藥、食品等行業(yè)應(yīng)用提供恒溫實(shí)驗(yàn)場(chǎng)源。
4、能對(duì)電子顯微鏡的電源、光源部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。
5、能對(duì)工業(yè)用機(jī)械裝置的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。
選購(gòu)反應(yīng)釜加熱冷卻裝置要注意的幾點(diǎn):
1、根據(jù)所需冷卻液體積來(lái)選擇循環(huán)泵型號(hào),當(dāng)然,容量越大價(jià)、溫度越低,價(jià)格也就越高。
2、根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要溫度不同,選用相應(yīng)溫控范圍的低溫泵。溫度越低,泵的價(jià)格越高,無(wú)錫冠亞反應(yīng)釜加熱冷卻裝置低溫可達(dá)-120℃。
3、實(shí)驗(yàn)溶液否有腐蝕性,如果是強(qiáng)酸/堿類(lèi)型溶液則需要選購(gòu)耐腐蝕的反應(yīng)釜加熱冷卻裝置。