簡要描述:【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。集成電路生產(chǎn)線項目Chiller用于刻蝕雙通道
品牌 | 冠亞制冷 | 冷卻方式 | 水冷式 |
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價格區(qū)間 | 10萬-50萬 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
儀器種類 | 一體式 | 應用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車 |
主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。
半導體專溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)
Chiller直冷型
循環(huán)風控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤
數(shù)據(jù)中心液冷解決方案
型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
溫度范圍 | 5℃~40℃ | ||||||
控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
流量控制 | 10~25L/min 5bar max | 15~45L/min 6bar max | 25~75L/min 6bar max | ||||
制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
內(nèi)循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
制冷劑 | R410A | ||||||
載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 (DI溫度需要控制10℃以上) | ||||||
進出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
溫度擴展 | 通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃ |
集成電路生產(chǎn)線項目Chiller用于刻蝕雙通道
集成電路生產(chǎn)線項目Chiller用于刻蝕雙通道
設備尺寸也是一個需要考慮的因素。你需要考慮你的設備需要占用多少空間,以及你的設備需要在什么樣的空間內(nèi)運行。一般來說,較大的設備需要更多的空間來安裝和維護,而較小的設備則可以在較小的空間內(nèi)運行。因此,在選擇設備尺寸時,你需要根據(jù)你的空間需求和應用來確定。
3、噪音:
在選擇金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller時,噪音也是一個需要考慮的因素。你需要考慮你的設備在使用過程中會產(chǎn)生多少噪音,以及這些噪音對你的工作環(huán)境和生活的影響。一般來說,較大的設備會產(chǎn)生更多的噪音。因此,在選擇設備時,你需要選擇一個具有低噪音的設備,以減少對你的工作環(huán)境和生活的影響。
4、價格:
價格也是一個需要考慮的因素。你需要考慮你的預算以及每個設備的價格。一般來說,較大的設備價格更高,但它們通常也具有更強的冷卻能力和更低的噪音。因此,在選擇設備時,你需要根據(jù)你的預算和應用來確定合適的設備。