【無錫冠亞】晶圓冷卻腔體測(cè)溫裝置 單晶硅冷卻循環(huán)裝置,冠亞制冷的半導(dǎo)體控溫chiller主要應(yīng)用與半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中及測(cè)試環(huán)節(jié)的溫度精準(zhǔn)控制,40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機(jī)熱氣加熱,半導(dǎo)體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計(jì)、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動(dòng)泵,經(jīng)過24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行拷機(jī)。
更新時(shí)間:2024-06-07
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域??焖贉刈兛販乜ūP 射流式高低溫沖擊測(cè)試機(jī)
更新時(shí)間:2024-01-11
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【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。-115射流高低溫沖擊測(cè)試機(jī) 制冷循環(huán)?機(jī)組
更新時(shí)間:2024-01-11
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【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。-115℃射流高低溫沖擊測(cè)試機(jī) 7-40 Chiller
更新時(shí)間:2024-01-11
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【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。-100℃射流高低溫沖擊測(cè)試機(jī) 熱流儀
更新時(shí)間:2024-01-11
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【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。-80℃射流高低溫沖擊測(cè)試機(jī) 循環(huán)風(fēng)控溫裝置
更新時(shí)間:2024-01-11
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